英特爾(Intel)首席執行官Pat Gelsinger已經受夠了…他代表Intel宣布，10納米工藝還是10納米，但是該節點(代號SuperFin)的下一代，會叫做“Intel 7”，然后再來是“Intel 4”、“Intel 3”，不會出現“納米”這個字眼。而在3之后，Intel著眼于埃米(angstroms，Å)尺寸，接下來的節點會叫做“20A”與“18A”。

　　以上是5個工藝節點就是Intel到2025年的技術藍圖，該公司也發表了新晶體管架構──Intel稱為“RibbonFET”的一種環繞式柵極(gate all-around，GAA)晶體管變體，還有利用晶圓片背面、命名為PowerVia的新型互連技術;同時，該公司亦宣布正與ASML合作，對極紫外光微(EUV)微影技術的革新做出貢獻。

　　工藝節點的重新命名，也許看來像是一家嘗試讓所有人忘記他們曾經跌跌撞撞、一度曾失去領導地位的公司在一本正經地胡說八道，但是其競爭對手所使用的節點名稱，卻會讓Intel聽起來很“落伍”，更幾乎是無意義的營銷…所以為何他們不能重新設定命名方法?

　　Intel一直強調，在任何既定的技術節點上，該公司的產品性能會比其他競爭對手推出的同類產品性能更好;例如其10納米工藝相當于臺積電(TSMC)的7納米工藝。對IC設計業者來說，性能是一個關鍵議題，每一代工藝節點的性能需要有所提升，節點之間的進展速度也要加快。然而，眾所周知Intel錯過了自己訂下的10納米工藝節點量產時程(現在已經全面量產)。

　　失去(或被認為失去)技術領導地位已經夠糟了，在工藝節點的進展路程中跌跌撞撞也很慘、甚至更不好。一家芯片制造商的客戶各自有產品藍圖，如果他們的供應伙伴讓他們無法達到默認的目標，對他們來說就是考慮換一家新伙伴的時候了。

　　這解釋了為何Gelsinger自從接手Intel首席執行官，就一再宣示該公司將開始按照常規節奏推進每一代工藝節點，而且每一代節點在性能上都會有顯著的性能提升。能否按時交貨至關重要，如果Intel又遭遇一次無法按時完成工藝節點演進的錯誤，恐怕不只危及現有客戶關系，對該公司力推的全新晶圓代工業務Intel Foundry Services (IFS)也會是致命打擊。

　　Intel在日前舉辦的全球記者會上宣布了詳細的工藝技術藍圖：

　　Intel 7將于今年問世，并于2022年量產;

　　Intel 4將于2022年底問世，并于2023年量產;

　　Intel 3將于2023年稍晚問世，意味著將于2024年量產;

　　Intel 20A將于2024年初問世;

　　Intel 18A預計于2025年初問世。

　　此外Intel也列出了對應以上工藝節點的處理器產品藍圖。舉例來說，Intel 7工藝將用于生產2021年客戶端設備Alder Lake處理器，以及預計2022年量產的Sapphire Rapids數據中心處理器。Intel 4則將用以生產客戶端處理器Meteor Lake，以及數據中心處理器Granite Rapids

　　Intel表示，其Intel 4工藝將全面采用EUV微影;該公司將繼續優化FinFET技術至Intel 3，從20A工藝開始則將轉換至GAA晶體管架構。而盡管業界幾乎所有開發先進工藝節點的廠商都在期待由FinFET轉向GAA，Intel自家的GAA技術被命名為RibbonFET，如下圖所示。

　　此外Intel也提及了新互連技術PowerVia (參考下圖)。該公司表示，傳統上互連導線是放置于晶體管頂端，雖然一直以來運作良好，但在新架構更小尺寸上，其效率也隨之降低。PowerVia是將互連放置于芯片下方，計劃于Intel 3工藝開始試驗，預計將于Intel 20A準備好商業化。

　　Intel表示正與Qualcomm合作，以20A工藝開發主流智能手機芯片平臺;如果合作一切順利，Qualcomm的背書會發揮重要作用。Intel已經嘗試在智能手機市場站穩腳跟好一段時間，但成效不彰。

　　而為了表明對發展制造技術的承諾，Intel也宣布正與設備業者ASML合作，定義、建立與部署更精練的高數值孔徑(high-NA) EUV技術，并聲稱該公司將會是業界首家量產高數值孔徑EUV系統的業者，其該系統將在18A工藝節點為RibbonFET的改善做出貢獻。

　　多年來，Intel一直標榜自家在新一代封裝技術方面處于領先地位，而封裝技術對于半導體組件性能的進一步提升扮演關鍵角色。該公司表示，其IFS部門已經與云端巨擘AWS簽署合作協議，后者將成為其先進封裝技術的第一位客戶。

　　節點命名方式

　　歷史上，最小晶體管柵極與工藝節點命名之間通常存在某種程度關系;但是當這兩者之間的關系完全被打破，就會產生一些爭議。有人說，那是發生在大約2010年問世的32納米節點，而Intel則表示應該要追溯至1997年，當時半導體工藝微縮至0.18微米。無論最小晶體管柵極與節點命名之間的距離是何時越拉越遠，現在兩者之間已經沒有關系。

　　市場研究機構Tirias Research分析師Keven Krewell表示，這也就是為何“工藝節點數字的重設已經逾時;Intel一直在做14納米+++的東西，但這對Intel以外的其他人來說是沒有意義的。臺積電則是創建了像是8納米這樣的中間節點，而這意味著很難將晶體管與晶體管進行詳細的比較。”

　　針對Intel在接下來5個節點的規劃，Krewell則表示：“該技術藍圖相當激進，但Intel感覺他們已經準備好迎接這樣的大躍進;每一個新節點都綁了特定產品，所以Intel的表現如何將會是清晰可見的。而Qualcomm采用20A工藝還是未來幾年之后的事，該公司愿意公開承認令人印象深刻;”他也指出，封裝技術是很重要的一個訊息，特別是Intel贏得AWS這家客戶。

　　在Intel于美國時間7月26日下午舉行的該場記者會上，Gelsinger在接受媒體提問時，被問到了AWS與Qualcomm以外的其他客戶。對此，他表示與Qualcomm的合作證明IFS客戶將會同步取得與Intel以內部使用為目的所開發、最先進的制造技術;而在Qualcomm之外，該公司也正在與其他客戶洽談，但不方便透露任何名稱。

　　Gelsinger僅透露，那些客戶有的來自工業領域，有的來自汽車領域，也有的是需要代工伙伴的半導體業者──包括一些在傳統上是競爭對手的廠商;他充滿熱情地表示：“IFS已經投入競賽!”